2019年度伟德BETVLCTOR1946研究生名家讲坛邀请到了中国科技大学物理学院王亮教授作为主讲人。10月14日上午，在伟德BETVLCTOR1946A401，王亮教授作了题为“After 193i，下一代纳米光刻技术的开发和应用”的学术报告。名家讲坛由伟德BETVLCTOR1946经理张海明教授主持，学院研究生和部分中青年教师参加。
王教授在报告中介绍了目前主流的芯片制作技术的发展历程，谈到了器件的特征尺寸达到纳米精度以后，光刻技术自身面临的挑战；尤其是最新的ASML EUV光刻机售价已经高达一亿美元，并且对中国禁售的现状。王教授介绍了一些可替代的低成本光刻技术研究成果，重点介绍了其中的等离子直写技术和纳米压印技术研究进展，特别提到了他本人在光刻技术领域的研究成果。报告后听众和王教授就感兴趣的问题进行了深度交流。
王教授在中国科技大学获得学士学位，在美国普渡大学获得硕士学位和博士学位。博士毕业后前往德克萨斯州澳士汀参与创立了分子制膜公司(Molecular Imprints)，是该公司创立期的20名员工之一，该公司后整体并入日本佳能公司。2011年初赴美国硅谷加入半导体微纳设备制造商科林研发公司（Lam Research Corp）担任主任工程师，负责与全球最大的半导体芯片供应商台积电（TSMC）共同开发20nm的芯片工艺。2013年初进入IBM 于纽约上州的芯片基地，任职技术经理负责14nm芯片的开发，2014年全职回国任中国科学技术大学教授、博士生导师，安徽省光电子重点实验室副主任。
王亮教授现在的研究方向是纳米光学和半导体光电器件。近年有30多篇学术论文发表在国际刊物上，被引用超过600次。申请和获得国际专利20余项，主持国家自然基金重大项目子课题和面上项目，主持科技部重点研发计划课题。应美国科学出版社邀请撰写 “Nanomanufacturing” 一章。是Physics Review Letters, Optics letters, Nanotechnology, Optics Express等多个国际权威杂志的特约审稿人。（审稿：伟德BETVLCTOR1946 廖帮全 编辑：宣传部 武冰洁）